FilmTec ™ ters osmoz membran elemanları endüstriyel proses suyu arıtımında çok etkilidir. Birçok endüstriyel sistemde, RO elemanları iyon değişimi (IX) reçine yatakları için ön işlem olarak da görev yapar. Olağanüstü özellikleri nedeniyle FilmTec ™ teknolojisi, sermaye yatırımını azaltmanıza, işletme maliyetlerini düşürmenize ve gelecekteki sistem genişletme için daha fazla esneklik sağlamanıza yardımcı olabilir.
YÜKSEK VERİMLİLİK
Proses suyu arıtımı için iyi çalışan sistem elemanları şunlardır:
• Yüzde 99,5 veya daha fazla tipik tuz reddi performansı üreten eşsiz yüksek aktif membran yüzey alanına sahip FilmTec ™ acı su elementleri.
• Düşük basınçlı RO sisteminin çalışması için ortaya çıkan talebi karşılamak için özel olarak tasarlanmış FilmTec ™ düşük enerjili tuzlu su elementleri; Bu elementler, tuz reddinden veya yüksek üretkenlikten ödün vermeden işletme giderlerini azaltmaya yardımcı olur.
• Demineralizer işletme maliyetlerini önemli ölçüde azaltmaya yardımcı olan iyon değiştirme yataklarından önce kurulan FilmTec ™ ters ozmoz membran elemanları; Bu elemanlarla kazan makyajı için ön muamele suyu silika, çözünmüş katılar ve toplam organik karbonu (TOC) gidererek reçinelerin ömrünü uzatarak kimyasal rejenerasyon kullanımını, atıkların taşınmasını ve bakım maliyetlerini düşürür.
• Sürekli kullanımda yüksek saflıkta su üreten çift geçişli RO sistemlerinde kullanılan FilmTec ™ ters ozmoz membran elemanları; Daha az katı su saflık şartlarına sahip uygulamalar için, bu elemanlar, tek geçişli RO sistemlerinde de uygun maliyetle kullanılabilir.
YÜKSEK SAFLIK
Yarı iletken üretiminde entegre devreleri durulamak için kullanılan ultra saf su, 18.2 megohm / cm'lik güçlü bir direnç gerektirir. FilmTec ™ portföyü, ultra saf su işleme sistemlerinde kirlenme potansiyelini büyük ölçüde azaltan ters ozmoz membran elemanları içerir.
Diğer FilmTec ™ element segmentine şunlar dahildir:
• Bir TOC bir saatte 20 ppb'nin altına kadar durulanır.
• Mükemmel izopropil alkol (IPA) ve silis reddi.
• Yüksek besleme suyu pH'ı, bor ve silika gibi zayıf asit anyonlarının reddine daha fazla izin verdiği bir süreçte uygulama için test edilmiş ve kabul edilmiştir.
